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拋光盤(pán)的平面精度對(duì)平面拋光精度的影響
拋光盤(pán)的平面精度與其精度的保持性決定了平面拋光的精度。因此為了使工件獲得高精度的加工平面，必須使用高精度平面的拋光盤(pán)。在拋光高精度面積較小的平面加工件時(shí)，要使用彈...
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油性研磨液和水性研磨液在平面研磨機(jī)上的應(yīng)用
研磨液有油性和水性之分，兩者都在平面研磨機(jī)上有較大的應(yīng)用范圍。但是兩者是存在一些區(qū)別的，最本質(zhì)的區(qū)別就是油性研磨液配料用的是油，也就是成分中大部分輔助材料是油;而水...
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拋光液作用和濃度對(duì)工件的影響
拋光液對(duì)拋光機(jī)的作用 可能很多從事化工行業(yè)的朋友都知道拋光機(jī)的構(gòu)成及運(yùn)用，在運(yùn)用的過(guò)程中一些輔助材料的使用在生產(chǎn)提供很大的方便，使機(jī)器能高效率的運(yùn)轉(zhuǎn)，提高生產(chǎn)的效率...
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吸附墊的應(yīng)用
吸附墊，主要用于半導(dǎo)體硅晶體材料，寶石晶體片，硅片外延片等產(chǎn)品的單面拋光，屬于電子材料 的拋光裝置。這是一種圓形的、由多層樹(shù)脂材料組成的復(fù)合結(jié)構(gòu)、硅片用水(或研磨液...
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拋光墊性能對(duì)拋光液的影響
拋光墊將拋光液中的磨粒輸送到工件表面，使突起的部分平坦化，是輸送拋光液的關(guān)鍵部件。拋光墊的剪切模量及彈性模量、粗糙度和可壓縮性等機(jī)械特性對(duì)工件的平整度及去除率有著...
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研磨發(fā)展的意義
研磨是用磨具中的磨料作用于被加工工件表面，進(jìn)行微量加工的過(guò)程。人類(lèi)采用研磨加工的歷史悠久，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。古代，研磨用于擦光寶石、銅鏡等；近代，研磨作為拋光的前道工...
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平面研磨加工技術(shù)
新光速指出平面研磨過(guò)程是一個(gè)受許多因素影響的復(fù)雜加工過(guò)程。研磨加工的方式、磨具的材質(zhì)和粒度、被加工材料的力學(xué)、物理、化學(xué)性能、研磨過(guò)程中的環(huán)境、壓力和速度等因素，...
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精密平面研磨加工技術(shù)特點(diǎn)
初始研磨時(shí)，由于磨粒尺寸大小不一，大顆粒所承受較大的壓力會(huì)發(fā)生磨粒嵌入工件的現(xiàn)象，使表面形成較大而深的劃痕，嚴(yán)重影響加工質(zhì)量的提高。新光速認(rèn)為隨著加工的繼續(xù)，磨粒...
